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    當前位置:首頁產(chǎn)品中心研磨分散機高速研磨分散機GMD2000/4輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機

    輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機

    產(chǎn)品簡介

    SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料100%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

    產(chǎn)品型號:GMD2000/4
    更新時間:2018-05-07
    廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
    訪問量:976
    詳細介紹在線留言

    輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機,輕鈣粉研磨分散機,高速研磨分散機,高剪切研磨分散機,德國進口研磨分散機,氫氧化鈣研磨分散機,管線研磨分散機,在線研磨分散機,連續(xù)研磨分散機

     

     

    SGN輕質(zhì)碳酸鈣研磨分散機可以處理量大,運轉(zhuǎn)更平穩(wěn),拆裝更方便,適合工業(yè)化在線連續(xù)生產(chǎn),粒徑分布范圍窄,分散效果佳,*,物料100%通過分散剪切。具有非常高的剪切速度和剪切力,粒徑約為0.2-2微米可以確保高速分散乳化的穩(wěn)定性。

     

    GMD2000系列研磨分散機的結構:研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

    *級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構造是否滿足預期的應用。

     

    GMD2000研磨分散機為立式分體結構,有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

    詢價和技術問題請來電:李 ()   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導。

     

    的特點:

    1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

    2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    3、 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

    4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    5、 高質(zhì)量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

    設備其它參數(shù):

    設備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
    電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
    電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ440V/50HZ
    電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
    研磨分散機材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
    研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
    研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
    進出口聯(lián)結形式:法蘭、螺口、夾箍
    研磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

     

    從設備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

    1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

    2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

    3.研磨的齒形結構(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

    4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

    5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設備的期限就不能再好了。)

     

    線速度的計算:

    剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

    剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
                   g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

    由上可知,剪切速率取決于以下因素:

    轉(zhuǎn)子的線速率

    在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
    SGN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

    速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

     所以轉(zhuǎn)速和分散頭結構是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

     

    GMD2000系列研磨分散機設備選型表
     

    型號

    流量

    L/H

    轉(zhuǎn)速

    rpm

    線速度

    m/s

    功率

    kw

    入/出口連接

    DN

    GMD2000/4

    300

    9000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD2000/5

    1000

    6000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD2000/10

    2000

    4200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD2000/20

    5000

    2850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD2000/30

    8000

    1420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    15000

    1100

    23

    110

    DN200/DN150

     

    流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%

     

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