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    當前位置:首頁產品中心研磨機納米研磨機GMSD2000納米研磨機 實驗室研磨機

    納米研磨機 實驗室研磨機

    產品簡介

    納米研磨機是透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎的效果。

    產品型號:GMSD2000
    更新時間:2022-10-18
    廠商性質:生產廠家
    訪問量:1098
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    納米研磨機如研磨 納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO合金等產品。納米金屬粉體、碳納米管、高純Al2O3、高純納米TiO2系列粉體、超活性納米TiO2催化劑、納米TiO2液體、納米TiO2銀抗菌劑、納米高純ZrO2、超細高純ZrO2、納米涂層材料、納米載銀抗菌粉、納米SiO2、納米ZnO、光觸媒、

     

    納米研磨機

    SGN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

    1  線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

    ②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

    ③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

    ④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

    ⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

    詢價和技術問題請來電:李 ()   公司有樣機可供客戶購前實驗,歡迎廣大客戶來我司參觀指導。

     

    的惡型號擦痕書

    磨分散機選配容器:本設備適合于各種不同大小的容器

    研磨分散機

    流量*

    輸出

    線速度

    功率

    入口/出口連接

    類型

    l/h

    rpm

    m/s

    kW

     

    GMD 2000/4

    300

    9,000

    23

    2.2

    DN25/DN15

    GMD 2000/5

    1000

    6,000

    23

    7.5

    DN40/DN32

    GMD 2000/10

    3000

    4,200

    23

    22

    DN80/DN65

    GMD 2000/20

    8000

    2,850

    23

    37

    DN80/DN65

    GMD 2000/30

    20000

    1,420

    23

    55

    DN150/DN125

    GMD2000/50

    60000

    1,100

    23

    110

    DN200/DN150

    *流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。

    1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

    2 處理量取決于物料的粘度,稠度和zui終產品的要求。

    3 如高溫,高壓,易燃易爆,腐蝕性等工況,必須提供準確的參數,以便選型和定制。

     

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