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產(chǎn)品中心分散機超高速分散機GMD2000GMD2000黑磷納米片分散液分散機 混合設(shè)備
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GMD2000黑磷納米片分散液分散機一、黑磷納米片分散液分散機，新型二維半導體材料研磨分散機，黑磷納米片分散液均質(zhì)機，黑磷納米片分散液混合機，黑磷納米片分散液制備設(shè)備
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ARTICLES一、黑磷納米片分散液分散機，新型二維半導體材料研磨分散機，黑磷納米片分散液均質(zhì)機，黑磷納米片分散液混合機，黑磷納米片分散液制備設(shè)備
二、黑磷是黑色有金屬光澤的晶體，是用白磷在很高壓強和較高溫度下轉(zhuǎn)化而形成的。 黑磷在磷的同素異形體中反應(yīng)活性很弱的，它在空氣中不會點燃。
三、黑磷納米片分散液特性及應(yīng)用：
1.特性：
厚度：1-10層
片徑：100 nm-5μm
濃度：0.2 mg/ml
2.應(yīng)用：
1.半導體
2.場效應(yīng)晶體管（FET）
3.各向異性
4.光電平臺
5.透明電子
6.寬帶偏振器
四、黑磷納米片分散液的制備方法：
將黑磷塊體浸入有機溶劑中，并進行攪拌，其中，所述攪拌的轉(zhuǎn)速為8000-14000轉(zhuǎn)/分，所述攪拌的時間為20-30h；再將上述攪拌后得到的溶液進行低速離心，收集上清液，并對所述上清液進行高速離心，去除上清液，收集固體沉淀，所述固體沉淀即大尺寸黑磷片。該方法操作簡單、條件溫和、價格低廉、重現(xiàn)性好、產(chǎn)量高，制備過程無需震蕩、超聲，易實現(xiàn)低成本產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)。所述大尺寸黑磷片的橫向尺寸為5-25m，可應(yīng)用于光電器件或傳感器制備等領(lǐng)域。
針對黑鱗未來市場的應(yīng)用前景，上海SGN/思峻公司結(jié)合德國核心技術(shù)研發(fā)出了新型黑磷納米片分散液制備機械——SGN黑磷納米片分散液分散機，該設(shè)備是由膠體磨和分散機組合而成的設(shè)備，轉(zhuǎn)速高達14000rpm，擁有強大的剪切力。
五．SGN黑磷納米片分散液分散機結(jié)構(gòu)：
SGN分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。
一級由具有精細度遞升的3級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下，凹槽在每級都可以改變方向。
第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗工作頭來滿 足一個具體的應(yīng)用。
GMD2000黑磷納米片分散液分散機
六SGN研磨分散機選型表：
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
GMD2000/4 | 300 | 9000 | 23 | 2.2 | DN25/DN15 |
GMD2000/5 | 1000 | 6000 | 23 | 7.5 | DN40/DN32 |
GMD2000/10 | 2000 | 4200 | 23 | 22 | DN80/DN65 |
GMD2000/20 | 5000 | 2850 | 23 | 37 | DN80/DN65 |
GMD2000/30 | 8000 | 1420 | 23 | 55 | DN150/DN125 |
GMD2000/50 | 15000 | 1100 | 23 | 110 | DN200/DN150
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黑磷納米片分散液分散機，新型二維半導體材料研磨分散機，黑磷納米片分散液均質(zhì)機，黑磷納米片分散液混合機，黑磷納米片分散液制備設(shè)備
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